High-NA EUV 계획 다음…MES 수율·로트·공정 칸부터 맞춥니다
삼성·SK하이닉스가 2028년부터 High-NA EUV로 메모리 양산을 계획한다는 보도가 나왔습니다. 축하 전에 MES에서 수율·로트·공정 칸이 같은 줄인지 먼저 맞춥니다.
사실: 2028 High-NA EUV 메모리 양산 계획이 보도됐습니다

글로벌이코노믹(로이터 인용)에 따르면 삼성전자와 SK하이닉스는 2028년부터 High-NA EUV 장비를 메모리 양산에 쓸 계획이라고 전했습니다. 장비 한 대당 약 4억달러(약 $400M) 규모로 알려졌고, ASML 의존과 수율 검증이 과제로 남았다고 적혔습니다. 이 글은 추가 수치를 추정하지 않습니다.
출처: 글로벌이코노믹(로이터 인용) https://www.g-enews.com/article/Global-Biz/2026/09/202609142027133201fbbec65dfb_1
사실: MES 수율·로트·공정은 같은 전표 줄이어야 합니다

MES에서 수율(양품률)·로트 ID·공정 단계가 서로 다른 줄·다른 시각을 가리키면, 장비 가동과 출하 판정이 어긋납니다. High-NA EUV 보도와 별개로, 수율·로트·공정 세 칸이 같은 로트·같은 공정인지가 선행 조건입니다. 이 글은 특정 벤더·도입 비용을 권하지 않습니다.
출처: MES 수율·로트·공정 점검 안내(에버그린), 상기 보도
해석: 오늘 할 일은 수율·로트·공정 칸 표 한 장입니다

High-NA EUV 소식을 읽은 뒤, 오늘 할 일은 (1) 수율 집계 기준, (2) 로트 ID, (3) 공정 단계·시각이 같은 줄인지 표로 남기는 일입니다. 빈칸·중복·미확정 로트를 먼저 고칩니다. 이 글은 수율 목표·ROI를 추정하지 않습니다.
출처: 상기 보도, MES 수율·로트·공정 점검 안내(에버그린)
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한줄 정리
High-NA EUV 계획 다음, MES에서 수율·로트·공정 칸부터 맞춥니다.
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